本文標題:圓柱形試件拋光-元件實驗拋光之影響
信息分類:行業動態 新聞來源：未知 發布時間：2012-10-29 23:09:42
圓柱形試件拋光可以分為好幾種，特別是繞射式元件新型的拋光法，
而各參數對圓柱件實驗拋光之影響又可細分為改變拋光具內孔的安排，確實會影響加工效率、磨粒顆粒越大加工效率較大、拋光液濃度越高所需的時間越少等等；
各參數對繞射元件實驗拋光之影響分為下列幾項：
(A)工件與拋光具的間隙大小，間隙越大材料移除率小，但尖點高度降低較小，
(B)轉速越高材料移除量也越高，但尖點高度降低多，(C)拋光液的濃度越高也會影響材料移除量，也會使得尖點高度下降快。
除此之外，如同前言所講的，UV繞射式拋光法比傳統拋光要來的好，可以由幾次學長所做出的試件中，然后用VK-9700明顯看出來，
拋光后明顯比拋光前，表面粗操度要來的小，也證明了精密加工的過人之處。
將本頁加入收藏
下一篇：購買顯微鏡用于照明時需要注意的事情
上一篇：光學顯微鏡照明光源的輻射能
本文出自上海永亨光學儀器有限公司，本文地址：http://www.renziyi.cn/xwjdt/542.html
工業顯微鏡測量顯微鏡視頻顯微鏡專業的供應商
合作伙伴：http://www.xianweijing.org/顯微鏡百科
- 沒有資料
